磁头结构表面刻蚀深度对磁头飞行姿态影响的实验研究

• 作者: 刘红彬 牛荣军 黄平
• 来源期刊: 测试技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米技术 磁头/磁盘 实验测试
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 测试技术与理论研究
• 页码范围: 84-88
• 页数: 5页
• 分类号: TH117.2
• 字数: 3639字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7449.2010.01.016

摘要

随着磁盘容量的不断增大, 测试技术也不断得到发展. 本论文中, 工作在纳米级条件下的磁头飞行姿态由动态飞高测试仪获得. 通过实验测试方法分析了 3 层 2 台阶负压型磁头表面结构的刻蚀深度对磁头飞行姿态的影响. 实验测试结果表明刻蚀深度的变化对磁头飞行姿态有明显的影响:随着次景层深度的增加, 最小飞行高度和俯仰角都有明显增大趋势;最小飞行高度随着基层深度的增加基本呈增大趋势, 而俯仰角呈下降趋势;侧翻角对次景层和基层深度变化不敏感. 实际的磁头结构设计中可实验测试结果和优化组合方法选择最佳结构表面刻蚀深度来降低磁头的飞行高度, 从而达到增大磁盘存储容量的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄平	华南理工大学机械设计及理论研究所	189	1407	18.0	27.0
2	刘红彬	河南科技大学机电工程学院	40	263	9.0	15.0
3	牛荣军	河南科技大学机电工程学院	23	104	5.0	9.0