低能电子束曝光的散射研究

• 作者: 于肇贤 刘强
• 来源期刊: 北京信息科技大学学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: Mott截面 Bethe修正公式 Monte Carlo 模拟 低能电子束
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 基础理论研究
• 页码范围: 23-26
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3028字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-6864.2010.02.005

摘要

采用Mott弹性散射截面和Monte Carlo计算方法进行模拟,将Joy和Lou的Bethe修正公式作为解决能量损失问题的非弹性散射模型.描述电子束入射固体过程,确定散射角、方位角、自由程和散射点处能量等参数.利用能量不超过5keV的低能电子束,模拟在不同厚度的抗蚀剂中进行的刻蚀过程,得到了不同能量电子束在衬底表面光刻的最佳抗蚀剂厚度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于肇贤	北京信息科技大学理学院	44	43	3.0	4.0
2	刘强	北京信息科技大学理学院	2	1	1.0	1.0