混合靶磁控反应溅射制备铁掺杂TiO2光催化剂薄膜

• 作者: 张文杰 朱圣龙 李汝愿 李瑛 王福会
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 化学
• 关键词: TiO2 光催化 磁控溅射 Fe掺杂
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 288-292
• 分类号: O643/X7
• 字数: 3123字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2010.03.15

摘要

采用直流磁控反应混合靶共溅射的方法,在玻璃基体上制备出了Fe掺杂的TiO2膜,优化了沉积条件以制备出均匀透明的TiO2膜.通过调整固定在Ti靶上的Fe片面积可以控制膜中Fe的浓度.随着Fe浓度的增加,膜的表面形貌从平整变得粗糙.Fe含量低的膜为锐钛矿晶体结构,在Fe含量高的膜中出现了Fe的氧化物.在纯TiO2膜中钛以Ti4+的形式存在,而在含Fe的膜中钛的氧化态下降,出现了混合价态.Fe的存在导致膜的光谱吸收边沿向可见光谱方向移动.Fe掺杂浓度低的膜比纯TiO2膜表现出了更强的光催化活性.另一方面,过多Fe的掺杂导致TiO2膜的光催化活性快速下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱圣龙	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	61	373	11.0	15.0
2	王福会	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	185	3078	28.0	48.0
3	李瑛	中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室	69	1350	20.0	35.0
4	张文杰	沈阳理工大学环境与化学工程学院	16	141	7.0	11.0
8	李汝愿	沈阳理工大学环境与化学工程学院	2	14	2.0	2.0