多层膜自持反应的数值模拟

• 作者: 何碧 王丽玲 王亮 蒋小华
• 来源期刊: 火工品
• 关键词: 反应多层膜 Al/Ni 自持传播 数值模拟 反应区
• 年，卷（期）: 2010,（3）
• 页码范围: 4-7
• 分类号: TJ450.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-1480.2010.03.002

摘要

采用有限差分法对Al/Ni多层膜的自持反应历程进行了数值模拟,研究了多层膜反应时的反应温度、速度以及反应区形状与宽度.结果表明:Al单层厚度为10nm的Al/Ni多层膜建立自持反应的时间约为0.01ms,且此时间随Al单层厚度增大而增加.稳定传播之前的反应速度较快,反应区宽度较之稳定传播后窄;稳定传播后,反应区宽度不再变化;此外,反应区由于预混层的存在呈现U形,与试验结果吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何碧	中国工程物理研究院化工材料研究所	40	369	12.0	17.0
2	蒋小华	中国工程物理研究院化工材料研究所	71	391	11.0	15.0
3	王亮	中国工程物理研究院化工材料研究所	14	81	4.0	8.0
4	王丽玲	中国工程物理研究院化工材料研究所	10	83	5.0	9.0