光学设备检测氮化硅膜厚

• 作者: 金曦
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: PECVD 氮化硅膜 光学检测系统
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 33-35
• 分类号: TN307
• 字数: 2239字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2010.11.009

摘要

氮化硅膜的厚度对于太阳能电池片的转换效率有着比较重要的影响.使用光学设备可以大大加快检测氮化硅膜的速度.为了证明其检测的精度以及可靠性,并普及这种新颖的检测方式,作者首先从理论上验证了氮化硅膜的颜色可以通过光学设备区分开来.其次,通过大量的实验数据对比之后证明了氮化硅膜的颜色与厚度是成线性关系的,并得到了相关的线性曲线图.最后,作者将光学设备所得到的检测结果与目前最普遍的椭偏仪设备的检测结果做比较,证明了光学设备的检测结果完全可靠精确.从而得到结论,使用光学设备检测太阳能电池片的氮化硅膜厚度不仅结果精确可靠,而且在速度上也有很大提升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金曦	苏州工业园区职业技术学院电子工程系	8	35	3.0	5.0