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次磷酸盐化学镀铜体系主组份变化研究进展
次磷酸盐化学镀铜体系主组份变化研究进展
作者:
刘智
周仲承
易家香
王克军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
环境友好
化学镀铜
次磷酸钠
再活化剂
摘要:
随着对环境保护的重视,以甲醛为还原剂的化学镀铜体系将被环境友好型的化学镀铜体系所取代,以次磷酸盐为还原剂的化学镀铜体系环保、工艺参数范围大、镀液寿命长,可能成为下一步的研究热点.对次磷酸盐化学镀铜体系中主要组份含量变化对沉积速率和镀层性能的影响进行了综述,对其发展方向进行了展望.
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文献信息
篇名
次磷酸盐化学镀铜体系主组份变化研究进展
来源期刊
印制电路信息
学科
工学
关键词
环境友好
化学镀铜
次磷酸钠
再活化剂
年,卷(期)
2010,(10)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
18-21
页数
分类号
TQ0
字数
3878字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1009-0096.2010.10.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
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1
周仲承
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王克军
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易家香
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刘智
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研究主题发展历程
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环境友好
化学镀铜
次磷酸钠
再活化剂
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
印制电路信息
主办单位:
印制电路行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1009-0096
CN:
31-1791/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市闽行区都会路2338号95号楼CPCA大厦2楼
邮发代号:
创刊时间:
1993
语种:
chi
出版文献量(篇)
5458
总下载数(次)
19
总被引数(次)
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