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摘要:
在陶瓷衬底上通过磁控溅射方法镀上金属Ti层后,改用CH4为溅射气体制备一层碳化物过渡层,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法制备出类球状微米金刚石聚晶薄膜.利用扫描电子显微镜、拉曼光谱和x-射线衍射分析了薄膜的结构和表面形貌.测试了类球状微米金刚石聚晶膜的场致电子发射特性,有过渡层制备的类球状微米金刚石聚晶膜的场发射开启电场仅为0.9 V/μm,在2.5 V/μm的发射电场下电流密度是10.8 mA/cm2,而无过渡层制备的类球状微米金刚石聚晶膜的开启电场为1.27 V/μm,在2.5V/μm的发射电场下电流密度是0.5 mA/cm2.实验结果表明,有碳化物过渡层的类球状微米金刚石聚晶薄膜的场发射特性效果更好.
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文献信息
篇名 过渡层对类球状微米金刚石聚晶的场发射影响
来源期刊 液晶与显示 学科 工学
关键词 微波等离子体化学气相沉积 场致电子发射 类球状微米金刚石聚晶
年,卷(期) 2010,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 519-522
页数 分类号 TB383|O484
字数 2709字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-2780.2010.04.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 高金海 郑州师范高等专科学校物理系 22 25 3.0 4.0
2 张武勤 郑州大学电气工程学院 25 50 5.0 5.0
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微波等离子体化学气相沉积
场致电子发射
类球状微米金刚石聚晶
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液晶与显示
月刊
1007-2780
22-1259/O4
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-203
1986
chi
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