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硅片湿法清洗技术与设备
硅片湿法清洗技术与设备
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摘要：
介绍了硅片制造过程中常见的湿法清洗技术,以及实现这些清洗技术的设备或装置.
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滴胶量控制
温度控制
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水蒸汽清洗
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刷洗
兆声
喷淋清洗
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研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子工业专用设备
主办单位：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
1004-4507
CN：
62-1077/TN
开本：
大16开
出版地：
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
邮发代号：
创刊时间：
1971
语种：
chi
出版文献量（篇）
3731
总下载数（次）
31
总被引数（次）
10002
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