Zn缓冲层对氧化锌薄膜的结构和光学特性的影响

• 作者: 侯丽莉 孟军霞 尚小荣 贾迎飞 陈海霞 陶亚明 马书懿
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO薄膜 缓冲层 磁控溅射 光致发光
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 1615-1617,1622
• 分类号: TB383|O484.4
• 字数: 3072字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了具有高c轴择优取向的不同Zn缓冲层厚度的ZnO(ZnO/Zn)薄膜.利用X射线衍射(XRD)法、扫描电子显微镜(SEM)技术和光致荧光(PL)发光谱(PL)等表征了ZnO/Zn薄膜的微观结构和发光特性.XRD的分析结果显示,随着缓冲层厚度的增加,(002)衍射峰的半高宽(FWHM)逐渐变小,表明薄膜的结晶质量得到改善.通过对样品 PL 谱的研究,发现分别位于435(2.85eV)和480nm(2.55eV)的蓝光双峰以及530nm(2.34eV)的绿光峰,且缓冲层沉积时间为10min时,样品的单色性最好.推测位于435nm的蓝光发射主要来源于电子从锌填隙缺陷能级到价带顶的跃迁所致,而绿光峰的发光机制与氧空位有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马书懿	西北师范大学物理与电子工程学院	69	226	8.0	11.0
2	陈海霞	西北师范大学物理与电子工程学院	11	38	3.0	5.0
3	陶亚明	西北师范大学物理与电子工程学院	5	29	3.0	5.0
4	孟军霞	西北师范大学物理与电子工程学院	4	25	3.0	4.0
5	侯丽莉	西北师范大学物理与电子工程学院	4	25	3.0	4.0
6	贾迎飞	西北师范大学物理与电子工程学院	4	25	3.0	4.0
7	尚小荣	西北师范大学物理与电子工程学院	5	26	3.0	5.0