高增益砷化镓光导开关中的特征量分析

• 作者: 刘鸿 阮成礼
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光电子学 参量值范围 仿真比较 光导开关
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 394-397
• 页数: 4页
• 分类号: TN303
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103702.0394

摘要

分析了高增益本征砷化镓光导开关(PCSS)中的几个重要参量,研究了光导开关的物理机制,发展了以畴电子崩(DEA)为基础的流注理论.提出了畴电子崩的3个必要条件:初始载流子密度n_(LD)≥3×10~(15)cm~(-3),耗尽层的空穴密度和积累层的电子密度至少其中之一能够超过畴电子崩的阈值n_(cs),非平衡载流子密度区域沿电场方向的特征长度△Z必须大于畴电子崩转变为局域流注时的生长畴宽度b.揭示了流注的光致电离效应产生的局域平均载流子密度的上限大约为10~(17)cm~(-3)·ps~(-1),能够为后代生长畴提供的初始载流子密度为3×10~(15)≤n(t=0)<10~(17)cm~(-3);流注的传播速度范围大约为2.97×10~8≤v_(pro)≤6.21×10~9cm/s.理论分析结果与实验观察一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阮成礼		55	513	14.0	19.0
2	刘鸿		7	38	4.0	6.0