YG8衬底腐蚀处理对氮化碳薄膜摩擦学性能的影响

• 作者: 刘军 唐利强 毕凯 陈志刚
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化碳薄膜 磁控溅射 摩擦学 腐蚀
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文,中文
• 页码范围: 126-130
• 页数: 5页
• 分类号: TB32
• 语种: 中文

摘要

采用直流与射频磁控反应溅射法在硬质合金YG8衬底上制备了氮化碳(carbon nitride,CN_x)薄膜.研究了溅射方式、衬底腐蚀处理对薄膜摩擦学性能的影响.结果表明:射频反应磁控溅射制备的CN_x薄膜的膜基结合力和摩擦因数明显高于直流反应磁控溅射薄膜的,适当的负偏压可以提高膜基结合力.衬底化学腐蚀预处理能够人幅度提高CN_x薄膜的膜基结合力,对直流溅射CN_x薄膜的摩擦因数影响不大,但能降低射频溅射CN_x薄膜的摩擦因数.射频反应磁控溅射法制备的CN_x薄膜比直流溅射法制备的CN_x薄膜耐磨性能好.衬底化学腐蚀预处理和溅射时对衬底施加适当的负偏压均有利于耐磨性能的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈志刚	江苏大学材料科学与工程学院	121	1114	18.0	28.0
2	刘军	江苏大学材料科学与工程学院	150	980	14.0	22.0
3	唐利强	江苏大学材料科学与工程学院	7	28	4.0	5.0
4	毕凯	江苏大学材料科学与工程学院	1	4	1.0	1.0