离子束后处理对TiO2薄膜表面粗糙度的影响

• 作者: 吴振森 杭凌侠 潘永强 王浩浩
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 二氧化钛 表面粗糙度 离子束后处理 椭偏仪
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1108-1113
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103704.1108

摘要

利用电子束热蒸发技术在两种不同粗糙度的K9玻璃和一批单晶硅基底上沉积了单层二氧化钛( TiO2)薄膜,并对这些样片进行了氧离子后处理.采用泰勒-霍普森相关相干表面轮廓粗糙度仪(Talysurf CCI)分别对基底以及样片处理前后的表面粗糙度进行了研究,并用椭偏仪对离子处理前后的Ti02薄膜的折射率进行了测量.实验结果表明,Ti02薄膜对于基底具有一定的平滑作用;当基底粗糙度较大时,随着轰击离子能量的增加样片的表面粗糙度先减小后增加;当氧离子的轰击时间增加时,薄膜表面粗糙度会明显降低,随着轰击离子束流密度的增加,薄膜表面的粗糙度减小的幅度会增加.