合成温度对碳热还原法合成碳化硅晶须形貌的影响

• 作者: 张军战 张颖 蒋明学
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 碳热还原 SiC晶须 合成温度 生长机理
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 369-374
• 分类号: TQ050.4+3
• 字数: 3961字
• 语种: 中文

摘要

以SiO2微粉为硅源,炭黑为碳源,氧化硼为催化剂,采用碳热还原法分别在1500 ℃、1550 ℃、1600 ℃制备了SiC晶须.通过扫描电镜,电子探针和透射电镜等分析手段,研究了合成温度对SiC晶须形貌的影响,探讨了晶须的生长机理.结果表明:当合成温度为1500 ℃时,所合成的SiC晶须形貌呈竹节状,选区电子衍射分析发现孪晶等面缺陷在晶须的生长方向上周期性出现;当合成温度在1550 ℃以上时,哑铃状晶须的数量会急剧增多,分析表明晶须表面包裹的串珠小球为β-SiC.在晶须的顶端发现催化剂熔球,由此推测生长机理为VLS机理,但当合成温度超过1550 ℃时,SiC会以VS生长机理沿径向沉积生成哑铃状晶须.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张颖	西安建筑科技大学材料科学与工程学院	71	240	9.0	11.0
2	蒋明学	西安建筑科技大学材料科学与工程学院	125	832	15.0	20.0
3	张军战	西安建筑科技大学材料科学与工程学院	52	232	9.0	13.0