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AlN基稀磁半导体的研究进展
AlN基稀磁半导体的研究进展
作者:
王腊节
聂招秀
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
AlN
稀磁半导体
居里温度
掺杂
过渡元素
摘要:
主要介绍了AlN基稀磁半导体(DMS)的研究进展,包括其发展过程、AlN基DMS的研究现状,描述了理想的AlN基DMS材料应具备的特征,并展望了其未来的研究方向.
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篇名
AlN基稀磁半导体的研究进展
来源期刊
材料导报
学科
工学
关键词
AlN
稀磁半导体
居里温度
掺杂
过渡元素
年,卷(期)
2010,(z1)
所属期刊栏目
新材料与新技术
研究方向
页码范围
304-306,329
页数
分类号
TM91
字数
4518字
语种
中文
DOI
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作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
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1
王腊节
南昌大学共青学院工程技术系
11
12
2.0
2.0
2
聂招秀
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8
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节点文献
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稀磁半导体
居里温度
掺杂
过渡元素
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料导报
主办单位:
重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
出版周期:
半月刊
ISSN:
1005-023X
CN:
50-1078/TB
开本:
大16开
出版地:
重庆市渝北区洪湖西路18号
邮发代号:
78-93
创刊时间:
1987
语种:
chi
出版文献量(篇)
16557
总下载数(次)
86
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