负偏压对多弧离子镀制备的(Ti,Cr)N膜的影响

• 作者: 于翔 付志强 彭志坚 李金丽 王成彪
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: (Ti,Cr)N薄膜 多弧离子镀 负偏压 表面缺陷
• 年，卷（期）: 2010,（z1）
• 页码范围: 316-319
• 分类号: TB304
• 字数: 2581字
• 语种: 中文

摘要

利用扫描电子显微镜、原子力显微镜等手段研究负偏压对多弧离子镀制备的(Ti, Cr)N薄膜表面缺陷、表面粗糙度、化学成分、沉积速率及硬度的影响.结果发现:随着负偏压的增加,(Ti, Cr)N薄膜的液滴受到抑制,表面粗糙度下降,沉积速率降低,硬度增加,但负偏压对薄膜的Cr含量影响较小.