电容并联式射频MEMS开关的制作工艺探讨

• 作者: 王平 王珊珊
• 来源期刊: 空间电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: RF-MEMS 开关 光刻 牺牲层
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 71-75
• 分类号: TM5
• 字数: 1965字
• 语种: 中文

摘要

文章对MEMs电容并联式射频开关的制作工艺进行了探讨,该射频开关采用双端固定的空气桥结构.通过实验,研究了精细共面波导图形的光刻工艺;采用正胶作为牺牲层,探讨了牺牲层的制作工艺,并分析了牺牲层释放方法对立体结构的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王平		23	83	5.0	8.0
2	王珊珊		5	1	1.0	1.0