应用于等离子体显示器的铝电极及其介质层制备研究

• 作者: 丁桂甫 刘启发 汪红 王艳
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体显示器 寻址电极 氧化铝介质层 磁控溅射 阳极氧化
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 电子器件
• 页码范围: 419-423
• 分类号: TN104|TN105
• 字数: 2912字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.04.08

摘要

提出用铝取代银作为寻址电极,氧化铝取代玻璃粉作为其上介质层的新型等离子体显示器(PDP)电极单元,对单项工艺进行了优化,并形成了完整可行的整体工艺路线,有望为PDP生产成本的降低提供一条新的技术途径.选用非连续磁控溅射和光刻-刻蚀工艺制备铝电极,阳极氧化工艺制备氧化铝介质层.用扫描电子显微镜对铝膜、氧化铝介质层及电极单元的整体形貌进行了表征；分别对所制备的铝电极的导电性能和氧化铝介质层的耐击穿性能进行了测定,结果表明在优化的实验条件下铝电极电阻率可以达到5.0× 10-8 Ω·m,氧化铝耐击穿强度大于100 V/μm,完全可以满足实际应用的技术要求.