酞菁铜溶解性研究及其电沉积薄膜的制备

• 作者: 刘燕刚 张佳 张青 朱园园 薛敏钊 钱凌峰
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 酞菁铜 三氟乙酸 电沉积
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 114-122
• 分类号: O6
• 字数: 2488字
• 语种: 中文

摘要

通过测定α-酞菁铜(α-CuPc)在4种不同的有机溶剂中的紫外可见光吸收光谱,研究了不同溶剂以及加入不同量的三氟乙酸(TFAA)对酞菁铜溶解性和质子化的影响.以溶解性研究为基础,探讨了在电化学沉积法制备酞菁铜薄膜时不同工艺条件对其形貌的影响.实验结果表明:加入TFAA后,酞菁铜在硝基甲烷和氯仿中溶解良好,而且在氯仿中更容易质子化;使用扫描电镜(SEM)表征,结果表明TFAA及酞菁铜摩尔含量对薄膜制备的影响最为明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛敏钊	上海交通大学化学化工学院	48	315	10.0	15.0
2	刘燕刚	上海交通大学化学化工学院	62	558	13.0	20.0
3	张青	上海交通大学化学化工学院	71	654	14.0	24.0
4	朱园园	上海交通大学化学化工学院	5	6	2.0	2.0
5	张佳	上海交通大学化学化工学院	21	334	7.0	18.0
6	钱凌峰	上海交通大学化学化工学院	2	3	1.0	1.0