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摘要:
【正】世界上的巨型半导体企业如Intel和台积电等将率先从2011年后启动开发22 nm以下的微细化量产技术,同时还都认为,2013年后可望量产化的15 nm技术是半导体加工工艺发展道路上的一个转折点。其表现为逻辑电路上现用的CMOS平面体管,将转变为具有3维沟道导向的立体晶体管。这一转变势必严重
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文献信息
篇名 半导体加工工艺走向15 nm转折点
来源期刊 半导体信息 学科 经济
关键词 半导体加工 NM 半导体企业 量产化 体管 微细化 逻辑电路 工艺发展 还都 光刻技术
年,卷(期) 2011,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 33-34
页数 2页 分类号 F416.63
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研究主题发展历程
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半导体加工
NM
半导体企业
量产化
体管
微细化
逻辑电路
工艺发展
还都
光刻技术
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
双月刊
16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
1990
chi
出版文献量(篇)
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11
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