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半导体加工工艺走向15 nm转折点
半导体加工工艺走向15 nm转折点
作者:
江兴
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
半导体加工
NM
半导体企业
量产化
体管
微细化
逻辑电路
工艺发展
还都
光刻技术
摘要:
【正】世界上的巨型半导体企业如Intel和台积电等将率先从2011年后启动开发22 nm以下的微细化量产技术,同时还都认为,2013年后可望量产化的15 nm技术是半导体加工工艺发展道路上的一个转折点。其表现为逻辑电路上现用的CMOS平面体管,将转变为具有3维沟道导向的立体晶体管。这一转变势必严重
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篇名
半导体加工工艺走向15 nm转折点
来源期刊
半导体信息
学科
经济
关键词
半导体加工
NM
半导体企业
量产化
体管
微细化
逻辑电路
工艺发展
还都
光刻技术
年,卷(期)
2011,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
33-34
页数
2页
分类号
F416.63
字数
语种
DOI
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2011(0)
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节点文献
半导体加工
NM
半导体企业
量产化
体管
微细化
逻辑电路
工艺发展
还都
光刻技术
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
主办单位:
中国半导体行业协会分立器件分会
中国电子科技集团公司第五十五研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
16开
出版地:
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
邮发代号:
创刊时间:
1990
语种:
chi
出版文献量(篇)
5953
总下载数(次)
11
总被引数(次)
664
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