硼扩散技术研究

• 作者: 佟丽英 史继祥 王春梅 王聪
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 硼 扩散浓度 扩散深度
• 年，卷（期）: 2011,（12）
• 所属期刊栏目: 材料制备工艺与设备
• 页码范围: 12-14
• 分类号: TN305.4
• 字数: 1752字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.12.004

摘要

对硼扩散浓度和扩散深度的控制技术进行了研究。通过采用两步扩散步骤、预扩散采用双面扩散的方式、再分布采用密闭碳化硅管、控制扩散温度和扩散时间,有效地控制了扩散层浓度和结深。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	佟丽英	中国电子科技集团公司第四十六研究所	19	22	3.0	3.0
2	史继祥	中国电子科技集团公司第四十六研究所	8	5	2.0	2.0
3	王聪	中国电子科技集团公司第四十六研究所	18	97	6.0	9.0
4	王春梅	中国电子科技集团公司第四十六研究所	5	3	1.0	1.0