阳极腐蚀法制备发光多孔硅的正电子湮没研究

• 作者: 吴伟明 李卓昕 梁立欢 王宝义
• 来源期刊: 广西大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 正电子湮没 电流密度 量子限制 阳极腐蚀
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 863-866
• 分类号: O571.1
• 字数: 2831字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7445.2011.05.028

摘要

使用正电子湮没寿命谱仪和真空紫外荧光光谱仪,对不同电流密度腐蚀条件下制备的多孔硅进行微结构及发光性能的表征,通过正电子湮没方法研究多孔硅微结构对多孔硅光致发光性能的影响.实验结果表明,随着腐蚀电流密度的增大,电子偶素在样品中的pick-off湮没寿命先增大后减小,同时样品的发光强度显示出相同趋势.可以推断,在腐蚀电流密度增加过程中,样品中硅纳米线尺寸逐渐减小,并且由于腐蚀作用增强而发生断裂,造成多孔硅层崩塌；样品的发光主要来源于纳米颗粒或纳米线的量子限制效应,并在颗粒最小时发光峰最强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宝义	中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室	69	258	9.0	12.0
2	吴伟明	广西大学物理科学与工程技术学院	29	190	7.0	13.0
3	李卓昕	中国科学院高能物理研究所核分析技术重点实验室	9	44	3.0	6.0
4	梁立欢	广西大学物理科学与工程技术学院	1	3	1.0	1.0