参数和结构对超晶格成像特性的调制

• 作者: 伍清萍
• 来源期刊: 华东交通大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 负折射率介质 成像 fibonaci thue-morse
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 81-85
• 分类号: O43
• 字数: 2090字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-0523.2011.01.017

摘要

利用传输矩阵方法研究了不同结构和不同参数调制下的成像特征.结果表明:在近似相同总层数和相同的参数下,不同结构对成像有一定影响:周期结构完美成像的波矢范围最大,thue-mose模型次之,fibonacci模型最小;进一步研究当负折射率介质的介电常数或磁导率偏离1时的成像特点,发现除了可以通过调节负折射率介质的介电常数或磁导率控制尖锐峰的峰值大小外,还可通过改变两种媒质的层数比以及正折射率媒质的吸收系数来控制尖锐峰峰值的大小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	伍清萍	华东交通大学基础科学学院	9	39	4.0	6.0