CVD钨沉积层组织控制

• 作者: 张永志 蒙丽娟 马捷 魏建忠
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 钨 残余应力 裂纹
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 24-27
• 分类号: TG174.444
• 字数: 1737字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2011.06.004

摘要

以WF6和H2为反应气体,采用间断供应反应气体方法改变CVD钨沉积层显微组织形貌.研究了间断沉积工艺参数对沉积层显微组织及性能的影响,讨论了间断沉积层的表面应力状态及断口裂纹扩展情况.结果表明:采用间断化学气相沉积法钨层的显微组织随周期沉积时间的缩短,柱状晶晶粒长度尺寸变小,形态逐渐接近等轴晶；沉积层表面形貌呈圆球状,沉积层生长界面不再趋向于单一方向；钨层保持了连续CVD钨的高纯度、高密度特性.且采用间断供应反应气体沉积方法显著降低了钨制品表面的残余应力,使裂纹扩展方向发生改变,有效阻碍了裂纹的深入扩展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏建忠	北京工业大学材料科学与工程学院功能材料教育部重点实验室	49	243	8.0	14.0
2	马捷	北京工业大学材料科学与工程学院功能材料教育部重点实验室	39	235	9.0	13.0
3	张永志	北京工业大学材料科学与工程学院功能材料教育部重点实验室	5	9	2.0	3.0
4	蒙丽娟	北京工业大学材料科学与工程学院功能材料教育部重点实验室	2	9	2.0	2.0