清洗液温度及浓度对硅研磨片清洗效果的影响

• 作者: 刘峰 吕菲 莫宇 陈琪昊 韩焕鹏
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 硅片 超声波清洗 清洗液温度 清洗液浓度 清洗时间
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 清洗技术与设备
• 页码范围: 23-27
• 分类号: TN305.97
• 字数: 4655字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.07.007

摘要

超声波清洗在硅片生产中具有广泛的应用,影响超声波清洗效果的因素有很多,如清洗液温度、清洗液浓度等。为了研究清洗温度和清洗液浓度对硅研磨片清洗效果的影响,在实验中通过改变清洗液温度及清洗液的浓度,最后观察硅片表面洁净情况。得出清洗液温度和清洗液浓度不是越高越好,在某一具体工艺下,都存在一个适宜范围,在适宜范围内,硅片的清洗效果相对较好,同时研究了清洗时间对硅研磨片清洗效果的影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕菲	中国电子科技集团公司第四十六研究所	24	88	6.0	8.0
2	韩焕鹏	中国电子科技集团公司第四十六研究所	28	43	4.0	5.0
3	陈琪昊	中国电子科技集团公司第四十六研究所	1	9	1.0	1.0
4	刘峰	中国电子科技集团公司第四十六研究所	12	24	3.0	4.0
5	莫宇	中国电子科技集团公司第四十六研究所	5	11	2.0	3.0