局部增强压焊块铝层厚度的工艺方法

• 作者: 赵文魁 马万里
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 铜线封装 压焊块 溅射 钝化层 反版
• 年，卷（期）: 2011,（7）
• 所属期刊栏目: 封装工艺与设备
• 页码范围: 40-43
• 分类号: TN405
• 字数: 1913字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.07.011

摘要

针对目前铜线封装对芯片压焊块的铝层厚度要求较高的问题,通过改进芯片制造工艺流程,对芯片内部压焊块的铝层进行单独地加厚。以便同时满足芯片封装厂采用铜线打线和芯片制造厂金属刻蚀工艺难易的要求。做法为,在钝化层刻蚀完成后,再生长一层足够厚的金属层,进行钝化层反版的光刻以及湿法刻蚀,只保留下压焊块区域的金属层,此时压焊块区域就有两层叠加的金属层,完全满足打铜线封装的要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马万里		9	13	2.0	3.0
2	赵文魁		4	6	1.0	2.0