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摘要:
由于锗在常温时即不与浓碱发生反应,也不与单一的强酸反应[1],因此其清洗机理与硅、砷化镓等材料相差较大[2,3].在大量实验的基础上,阐述了锗单晶抛光片的清洗机理.通过对锗抛光片表面有机物和颗粒的去除技术研究,建立了超薄锗单晶抛光片的清洗技术,利用该技术清洗的超薄锗单晶抛光片完全满足了空间高效太阳电池的使用要求.
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文献信息
篇名 空间太阳能电池用超薄锗单晶片的清洗技术
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 锗单晶抛光片 清洗 空间太阳能电池
年,卷(期) 2011,(3) 所属期刊栏目 光伏制造与设备
研究方向 页码范围 31-34
页数 分类号 TN305.97
字数 3217字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.03.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵权 中国电子科技集团公司第四十六研究所 30 136 6.0 9.0
2 杨洪星 中国电子科技集团公司第四十六研究所 50 145 6.0 8.0
3 刘春香 中国电子科技集团公司第四十六研究所 18 79 5.0 7.0
4 林健 中国电子科技集团公司第四十六研究所 10 29 3.0 5.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
锗单晶抛光片
清洗
空间太阳能电池
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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