双梳型共聚物在莠去津颗粒表面吸附的X射线光电子能谱分析

• 作者: 刘丹 吴学民 孙宝利 徐妍 蔡梦玲 马超
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: X射线光电子能谱 莠去津 双梳型共聚物 吸附
• 年，卷（期）: 2011,（9）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 1437-1441
• 分类号: TQ450.7|O657.62
• 字数: 4010字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1096.2011.01437

摘要

采用X射线光电子能谱(XPS)研究了双梳型共聚物吸附于莠去津颗粒样品表面的电子状态,计算了吸附厚度.结果表明:吸附后,莠去津颗粒界面的N 1s和Cl 2p谱峰强度明显减弱,Cl 2s几乎消失,而C 1s和O1s谱峰强度则明显增强,这主要是双梳型共聚物中C和O的贡献,且吸附后能在莠去津颗粒界面形成良好的吸附保护膜,其厚度约为15nm.本研究拓宽了X射线光电子能谱仪的应用领域,且对莠去津悬浮剂的稳定机理研究有实际意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙宝利	中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所	15	162	8.0	12.0