基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备

• 作者: 刘丹丹 刘华松 季一勤 宋洪君 沈正祥 焦宏飞 王占山 程鑫彬 陈德应 马彬
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 宽带减反膜 离子束溅射 时间-功率控厚 膜层厚度修正
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 407-411
• 分类号: TN244|O484
• 字数: 2191字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20112302.0407

摘要

为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜,利用离子束溅射沉积技术,在时间-功率控厚的模式下,对膜层沉积速率进行了精确修正.在实验中,利用时间一功率控厚的离子柬溅射沉积技术,选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合,在超抛ZF6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜,通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算,获得膜层厚度修正系数,初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律.利用修正后的沉积参数制备设计的膜系,在0°～30°入射角度下,600～1200 nm波段的平均透过率达到99%以上.