微立体光刻中光敏树脂特性的实验研究

• 作者: 吴东岷 周庚侠 孙天玉 班书宝 顾济华
• 来源期刊: 科学技术与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 微立体光刻 复合材料 曝光量阈值 穿透深度
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 736-739
• 分类号: TH145.42
• 字数: 3248字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1815.2011.04.012

摘要

微立体光刻技术是基于快速原型制造技术思想的新型微细加工技术.在微立体光刻制造中,光敏树脂在一定波长的光照下发生固化反应,光敏树脂的曝光量阈值和透射深度是光敏树脂的两个重要的特性参数.对掺入质量比20%氧化硅纳米颗粒自行制备的光敏树脂的两种特性值进行测试研究,测量得到光敏树脂在氮气环境中比与在空气中的曝光量阈值小,分别为5.6 mJ/cm2以及86.5 mJ/cm2;加入光吸收剂后的透射深度比不加入光吸收剂的透射深度小,分别为14以及60.根据测量的树脂的特性值,使用实验室开发的微反射镜动态掩膜微立体光刻系统,成功制作微齿轮.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾济华	苏州大学物理科学与技术学院	85	716	13.0	22.0
2	班书宝	苏州大学物理科学与技术学院	4	8	2.0	2.0
6	周庚侠	苏州大学物理科学与技术学院	4	8	2.0	2.0
10	孙天玉	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	4	6	2.0	2.0
11	吴东岷	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	10	15	3.0	3.0