光刻机主基板的动态特性分析及优化

• 作者: 严天宏 余显忠 郭合忠 陈学东
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 主基板 有限元分析 模态试验 优化设计
• 年，卷（期）: 2007,（21）
• 所属期刊栏目: 机械科学
• 页码范围: 2524-2527
• 页数: 4页
• 分类号: TH113.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132x.2007.21.002

摘要

利用有限元分析理论和模态分析理论,分析了高分辨光刻机主基板的动态特性,分析结果表明主基板结构设计合理.结合模态试验,验证了主基板有限元模型的正确性.利用该有限元模型,进行了灵敏度分析,还进一步实现了主基板结构的优化设计.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈学东	华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室	56	741	16.0	24.0
2	郭合忠	华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室	1	7	1.0	1.0
3	严天宏	上海微电子装备有限公司国家光刻设备工程技术研究中心	6	55	5.0	6.0
4	余显忠	华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室	10	90	6.0	9.0