基于动态曝光的激光光刻机的设计

• 作者: 刘吉 张宇峰 殷庆纵
• 来源期刊: 测控技术
• 学科: 工学
• 关键词: 动态曝光 激光 光刻 光栅 3D图像 DSP FPGA
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 理论与实践
• 页码范围: 136-139
• 页数: 4页
• 分类号: TP273
• 字数: 2429字
• 语种: 中文

摘要

为了提高激光全息防伪技术,开发了以工业控制计算机为上位机、DSP TMS320F2812为下位机的高速光刻机.该光刻机采用动态曝光的工作方式,实现了高速高精度定位.解决了传统光刻机需要在静止的状态下完成曝光的工作模式,使光刻速度提高了20 ～ 30倍,提高了激光防伪商标母板制作的技术水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	殷庆纵	苏州工业职业技术学院电子与通信工程系	22	44	3.0	5.0
2	刘吉		6	6	2.0	2.0
3	张宇峰	苏州工业职业技术学院电子与通信工程系	13	24	2.0	4.0