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Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film
Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film
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摘要：
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反相微乳液法
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杀菌
内容分析
关键词云
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文献信息
| 篇名 | Effects of RF-Sputtering Method Based Oxygen Flow Rate Change on the Properties of ZrO2 Thin Film | ||
| 来源期刊 | 材料科学与工程：中英文A版 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | ZRO2薄膜 射频溅射法 薄膜性能 氧气流量 汇率 薄膜生长 氧分压 氧气分压 | ||
| 年，卷（期） | clkxygczy-a_2012,（3） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 341-345 | |
| 页数 | 5页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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ZRO2薄膜
射频溅射法
薄膜性能
氧气流量
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氧分压
氧气分压
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期刊影响力
材料科学与工程：中英文A版
主办单位：
美国大卫出版公司
出版周期：
季刊
ISSN：
2161-6213
CN：
开本：
出版地：
武汉洪山区卓刀泉北路金桥花园C座4楼
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
972
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