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摘要:
ARM和GLOBALFOUNDRIES日前宣布,双方将联手研发20nm工艺节点和FinFET技术。ARM之前和台积电进行了紧密合作,在最近发布了若干使用台积电28nm工艺节点制作的硬宏处理器。但ARM日前又和GLOBALFOUNDRIES签订了合作协议,旨在为后者即将推出的、使用FinFET技术的20nm工艺节点开发SoC优化设计。
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拓展临近效应由纳米连接制备亚20nm金属Nanogaps
金属nanogap
纳米构筑技术
临近效应
电子束光刻
内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 ARM和GLOBALFOUNDRIES联手研发20nm移动芯片
来源期刊 中国集成电路 学科 工学
关键词 ARM 移动芯片 研发 FinFET 合作协议 优化设计 台积电 节点
年,卷(期) 2012,(9) 所属期刊栏目 业界要闻
研究方向 页码范围 5-5
页数 1页 分类号 TN386
字数 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
ARM
移动芯片
研发
FinFET
合作协议
优化设计
台积电
节点
研究起点
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期刊影响力
中国集成电路
月刊
1681-5289
11-5209/TN
大16开
北京朝阳区将台西路18号5号楼816室
1994
chi
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