用于LED制造的EVG620HBL GenⅡ掩模对准系统

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: HB-LED 对准系统 掩模 高亮度发光二极管 制造 批量生产 全自动 第二代
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 企业之窗
• 页码范围: 61-61
• 页数: 1页
• 分类号: TN312.8
• 字数: 595字
• 语种: 中文

摘要

EVG620HBL Gen Ⅱ是EVG用于高亮度发光二极管（HB-LED）批量生产的第二代全自动掩模对准系统。GenⅡ在发布第一代EVG620HBL的1年后推出，提供一个工具平台，主要用于满足HB-LED客户的特定需求，以及市场对降低总所有权成本的不断要求。