应用材料公司宣布推出全新Centura？AvatarTM刻蚀系统

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 应用材料公司 系统 刻蚀 高深宽比 存储结构 NAND
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 企业之窗
• 页码范围: 62-63
• 页数: 2页
• 分类号: TN305
• 字数: 1688字
• 语种: 中文

摘要

今天,应用材料公司宣布推出全新的Ap-plied Centura Avatar刻蚀系统。该系统主要针对高深宽比刻蚀应用,如制造新兴的三维NAND存储结构。