纳米膜层厚度标准的研制

• 作者: 严利平 叶孝佑 崔建军 杜华 高思田
• 来源期刊: 计量学报
• 学科: 工学
• 关键词: 计量学 纳米计量 纳米膜厚标准 量值溯源 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2012,（z1）
• 所属期刊栏目: 几何量计量
• 页码范围: 54-58
• 页数: 5页
• 分类号: TB92
• 字数: 2860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1158.2012.z1.14

摘要

为实现纳米薄膜厚度计量的量值溯源,研制了一套纳米薄膜厚度校准样片,其中纳米单层膜厚度标准片带有可供各类接触式测量仪器测量的膜厚图形,厚度值从5 nm至100 nm.该校准样板能够分别在X射线衍射仪、椭偏仪、原子力显微镜、台阶仪等多种测量原理不同的仪器上进行了溯源性测量.而纳米多层膜标准样片包括纳米超晶格和等周期厚度的多层膜,能够对反射高能电子衍射、电子显微镜、卢瑟福背散射、俄歇电子能谱和二次离子质量分析、X线电子能谱等仪器进行溯源性测试.通过研制的纳米薄膜厚度校准样片实现了多类纳米薄膜厚度测量仪器的校准和量值溯源.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶孝佑		44	254	10.0	13.0
2	高思田		93	567	11.0	19.0
3	崔建军	天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室	33	122	6.0	8.0
5	严利平	浙江理工大学纳米测量技术实验室	31	88	5.0	9.0
6	杜华		33	201	8.0	12.0