应用材料为20nm制程开发自主式缺陷检测SEM

• 来源期刊: 中国集成电路
• 学科: 工学
• 关键词: 应用材料公司 缺陷检测 SEM 自主式 扫描电子显微镜 开发 制程 检测工具
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 业界要闻
• 页码范围: 7-7
• 分类号: TN305
• 语种: 中文

摘要

应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统，进一步提升其在缺陷检测扫描电子显微镜（Scanning ElectronicMicroscope，简称SEM）技术的领导地位，这是首款可供芯片制造商用于无人生产环境的缺陷检测工具，能拍摄并分析20纳米影响良率的缺陷。