Ti-Si-N纳米复合薄膜的制备及其力学性能

• 作者: 张平余 张玉娟 杨莹泽 翟玉浩
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 学科: 工学
• 关键词: Ti-Si-N 纳米复合薄膜 纳米硬度 摩擦
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 功能材料
• 页码范围: 1383-1389
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3715字
• 语种: 英文

摘要

采用离子束溅射与磁过滤阴极弧共沉积技术在单晶硅片(400)表面制备Si含量(摩尔分数)为3.2％～15.5％范围内的TiSiN薄膜.采用X射线光电子能谱(XPS)、电子散射谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)研究TiSiN薄膜的显微结构和力学性能.结果表明:低Si含量的薄膜以面心立方晶型的Ti(Si)N固溶体形式存在,择优晶面为(200)面:当Si含量饱和后,出现Ti(Si)N和Si3N4非晶相,形成Ti(Si)N/Si3N4纳米复合结构.薄膜硬度范围在22～26GPa,采用Si3N4小球为对偶时薄膜的摩擦因数均维持在0.13～0.17之间.Si含量为10.9％时,硬度达最大值,结合较低的粗糙度,使其摩擦因数和磨损率达到最低值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张平余	河南大学特种功能材料重点实验室	57	496	12.0	19.0
2	张玉娟	河南大学特种功能材料重点实验室	20	184	7.0	13.0
3	翟玉浩	河南大学特种功能材料重点实验室	2	14	2.0	2.0
4	杨莹泽	河南大学特种功能材料重点实验室	1	8	1.0	1.0