Ni2+掺杂ZnO薄膜及粉体的结构和发光性能研究

• 作者: 孙乃坤 徐送宁 柳峰 蔡宗岐 赵美星 高印博
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光脉冲沉积 Ni掺杂 ZnO薄膜 光致发光 缺陷发光
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1586-1589
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2428字
• 语种: 中文

摘要

采用激光脉冲沉积法,用XeCl准分子激光器在Si (100)基片、真空和5Pa氧气气氛下制备了Ni2+(0.8％(原子分数))掺杂的呈六角纤锌矿结构的ZnO薄膜.氧气气氛下制备的薄膜沿(002)取向生长,表面比较平整,平均颗粒尺寸为80nm.真空条件下制备的薄膜出现Zn2SiO4杂相,平均颗粒尺寸为150nm.和真空条件下制备的薄膜相比,氧气气氛下制备的薄膜具有较强的ZnO本征发光,在425nm附近出现由于填隙Zn缺陷引起的较宽的蓝光发光带,并且在482nm处出现了由于氧空位和氧间隙间的转换引起的较强的蓝光发光峰,同时由于氧缺陷引起的449nm附近的蓝光发光峰强度明显降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐送宁	沈阳理工大学理学院	45	109	7.0	8.0
2	孙乃坤	沈阳理工大学理学院	18	25	4.0	4.0
3	高印博	沈阳理工大学理学院	5	13	3.0	3.0
4	柳峰	沈阳理工大学理学院	8	18	3.0	4.0
5	蔡宗岐	沈阳理工大学理学院	5	12	3.0	3.0
6	赵美星	沈阳理工大学理学院	7	15	3.0	3.0