全息光刻中的驻波效应研究

• 作者: 付绍军 刘正坤 刘颖 徐向东 洪义麟 邱克强
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 全息光刻 驻波 减反射膜
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 165-171
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文

摘要

对光刻胶内光强分布进行了计算与模拟,结果表明,来自基底的反射光与入射光干涉,光强在垂直基底的方向上呈现强弱周期性变化,即驻波效应.进一步的分析与实验结果表明,随着基底反射率的增加,驻波效应变得严重,进而影响光栅掩模的槽形、占宽比并限制线条高度.为减弱驻波效应的影响,尝试了使用减反射膜降低基底反射光强度,实验结果表明,在基底与光刻胶之间增加一层减反射膜吸收来自基底的反射光强度,减弱驻波效应的效果显著.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	74	701	15.0	21.0
2	洪义麟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	56	478	13.0	19.0
3	付绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	435	12.0	15.0
4	刘颖	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	158	3777	30.0	58.0
5	邱克强	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	25	135	6.0	10.0
6	刘正坤	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	32	132	6.0	9.0