基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用溶剂蒸发法,以丙酮为溶剂,在一定结晶条件下可获得晶体质量好的厘米级RDX大单晶(约40 mm x40 mm×30 mm).用高分辨X射线三晶衍射(TAXRD)摇摆曲线(ω扫描)研究了RDX单晶的生长诱导位错,用Split PearsonⅦ分析函数并对摇摆曲线进行了拟合,得到(210)、(200)和(111)晶面的摇摆曲线半高宽(FWHM),其值分别为35.35 arcsec,45.31 arcsec和77.92 arcsec,说明(111)晶面的位错密度最大,线生长速度最快;(210)晶面的位错密度最小,线生长速度最慢,RDX单晶呈现出各向异性.
推荐文章
RDX单晶的培养与表征
RDX
单晶培养
表征
半导体单晶生长过程中的位错研究
位错密度
半导体
单晶生长
熔体法
RDX和HMX单晶的压痕断裂韧性
材料科学
HMX
RDX
单晶
压痕法
断裂韧性
对矿物中位错和位错增殖的几点认识
矿物位错
位错密度
应力
位错速度
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 RDX单晶的生长诱导位错表征
来源期刊 含能材料 学科 化学
关键词 有机化学 RDX大单晶 摇摆曲线 生长诱导位错
年,卷(期) 2013,(3) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 301-305
页数 5页 分类号 TJ55|O62
字数 3148字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-9941.2013.03.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李洪珍 中国工程物理研究院化工材料研究所 54 657 16.0 22.0
2 周小清 中国工程物理研究院化工材料研究所 23 224 8.0 14.0
3 王述存 中国工程物理研究院化工材料研究所 12 31 4.0 5.0
4 徐容 中国工程物理研究院化工材料研究所 35 344 11.0 16.0
5 黄明 中国工程物理研究院化工材料研究所 73 573 14.0 19.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (10)
节点文献
引证文献  (5)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1974(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1983(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1984(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
1989(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1994(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1996(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1999(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2003(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2006(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2013(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2013(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2014(2)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(0)
2016(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2017(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
有机化学
RDX大单晶
摇摆曲线
生长诱导位错
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
含能材料
月刊
1006-9941
51-1489/TK
大16开
四川省绵阳市919信箱310分箱
62-31
1993
chi
出版文献量(篇)
3821
总下载数(次)
6
总被引数(次)
23008
论文1v1指导