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基底温度对α-C:H膜微观结构的影响
基底温度对α-C:H膜微观结构的影响
作者:
李钱陶
杨长城
熊长新
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
类金刚石膜
基底温度
微结构
射频增强等离子体化学气相沉积
原子力显微镜
摘要:
使用RF-PECVD法分别在基底温度为60℃、120℃和200℃的N型单晶锗表面制备了α-C:H膜,采用拉曼光谱、傅里叶变换红外吸收光谱和原子力显微镜等技术手段研究分析了α-C:H膜的价键组成及表面形貌,讨论了基底温度对α-C:H膜微结构及部分性能的影响.结果表明,在α-C:H膜沉积过程中,基底温度对膜层微观结构有较大影响,基底温度60℃时,膜层表面光滑、致密无石墨化现象.随着基底温度的升高,α-C:H膜中含H量和微晶石墨量逐渐增多,α-C:H膜层性能也逐步退化.
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磁控溅射
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文献信息
篇名
基底温度对α-C:H膜微观结构的影响
来源期刊
光学与光电技术
学科
物理学
关键词
类金刚石膜
基底温度
微结构
射频增强等离子体化学气相沉积
原子力显微镜
年,卷(期)
2013,(4)
所属期刊栏目
材料与器件
研究方向
页码范围
95-98
页数
分类号
O481.1+1
字数
语种
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原子力显微镜
研究起点
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
光学与光电技术
主办单位:
华中光电技术研究所
武汉光电国家实验室
湖北省光学学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1672-3392
CN:
42-1696/O3
开本:
大16开
出版地:
武汉市阳光大道717号
邮发代号:
38-335
创刊时间:
2003
语种:
chi
出版文献量(篇)
2142
总下载数(次)
3
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