并行共焦测量中的并行光源技术综述

• 作者: 余卿 余晓芬 叶瑞芳 崔长彩 范伟
• 来源期刊: 中国光学
• 学科: 工学
• 关键词: 共焦显微镜 并行光源 并行共焦测量 三维形貌术 微透镜阵列 数字微镜器件
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: ? 综述?
• 页码范围: 652-659
• 页数: 8页
• 分类号: TH742.9
• 字数: 3257字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CO.20130605.0652

摘要

并行共焦测量技术的核心是将单点共焦测量变成多点同时扫描测量，从而使共焦测量速度显著提高。本文介绍了共焦测量技术原理，综述了用于并行共焦的并行光源技术，分析了这些方法的优点和不足。结合作者近年来的研究成果，重点阐述了基于微透镜阵列和数字微镜器件（DMD）产生并行光源的新方法。分析和研究了DMD的空间光调制机理，最终建立了一种单光源双光路并行像散共焦测量系统。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔长彩	华侨大学机电及自动化学院	55	459	12.0	20.0
2	范伟	华侨大学机电及自动化学院	22	106	6.0	10.0
3	余晓芬	合肥工业大学仪器科学与光电工程学院	97	756	14.0	22.0
4	叶瑞芳	华侨大学机电及自动化学院	19	60	4.0	7.0
5	余卿	华侨大学机电及自动化学院	21	61	4.0	7.0