化学刻蚀两步法制备硅纳米线

• 作者: 任晨星 周婷婷 李常青 梅欣丽
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 硅纳米线 银辅助化学刻蚀 扫描电子显微镜 光致发光
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 495-497,502
• 分类号: TB383
• 语种: 中文

摘要

采用化学刻蚀两步法制备硅纳米线.在制作过程的不同阶段,通过金相显微镜,扫描电子显微镜及透射电子显微镜分别对其表面形态进行观察.结果表明,通过两步法制作的硅纳米线比传统刻蚀方法制作的样品具有更细的直径.光致发光的测量结果表明,两步法制备的硅纳米线在可见光领域有较强的红光发射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周婷婷	郑州大学信息工程学院	6	28	3.0	5.0
2	任晨星	郑州大学材料工程学院	29	158	7.0	10.0
3	梅欣丽	郑州大学信息工程学院	4	70	3.0	4.0
4	李常青	郑州大学信息工程学院	17	83	4.0	9.0