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掺Zn改善SnS2光电薄膜的性能
掺Zn改善SnS2光电薄膜的性能
作者:
康海涛
李健
柴燕华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
热蒸发
SnS2薄膜
Zn掺杂
热处理
特性
摘要:
热蒸发制备Zn掺杂SnS2薄膜,研究不同Zn含量及热处理条件对薄膜的物相结构、表面形貌和光电性能的影响.实验给出用Sn:S=1∶1.08(wt)混合粉末沉积的薄膜,经380℃、15min热处理后得到简单正交晶系的SnS2薄膜;9(wt%)掺Zn后的薄膜热处理条件为370℃、20min.Sn、S和Zn分别以正4价、负2价和正2价存在于薄膜中.SnS2薄膜的直接光学带隙为2.12eV,掺Zn后为2.07eV;薄膜的电阻率从未掺Zn时的4.97×102Ω·cm降低到2.0Ω· cm,下降了两个数量级,所有SnS2薄膜导电类型均为N型.
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光电响应性能
内容分析
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文献信息
篇名
掺Zn改善SnS2光电薄膜的性能
来源期刊
材料科学与工程学报
学科
物理学
关键词
热蒸发
SnS2薄膜
Zn掺杂
热处理
特性
年,卷(期)
2013,(4)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
562-567
页数
分类号
O484.4
字数
语种
中文
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李健
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36
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7.0
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5
康海涛
内蒙古大学物理科学与技术学院
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热蒸发
SnS2薄膜
Zn掺杂
热处理
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研究起点
研究来源
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相关学者/机构
期刊影响力
材料科学与工程学报
主办单位:
浙江大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1673-2812
CN:
33-1307/T
开本:
大16开
出版地:
浙江杭州浙大路38号浙江大学材料系
邮发代号:
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
4378
总下载数(次)
9
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