多层纳米微结构的制备与陷光机理研究

• 作者: 吕红杰 岳之浩 沈鸿烈 王威
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学腐蚀 多层纳米微结构 制备 陷光机理 反射率
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 固态电子器件及材料
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TK514
• 字数: 2868字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2013.01.001

摘要

采用电化学腐蚀方法在单晶硅片表面制备了折射率渐变的多层纳米微结构.用扫描电镜和UV-VIS-NIR分光光度计分别分析了多层纳米微结构的表面形貌和反射率.研究了腐蚀电流密度和腐蚀时间对微结构减反射性能的影响并分析了多层纳米微结构的陷光机理.结果表明:硅片表面的纳米孔径随着腐蚀电流密度和腐蚀时间增加而增大,初始腐蚀电流密度为12.25 mA/cm2和腐蚀时间为2 s时,表面最大的纳米孔径为30 nm,在400 nm～ 800 nm的可见光波长范围内的反射率为3.4％,在200 nm～2 000 nm的宽波长范围内反射率仅为5.8％,远小于常规金字塔对应的反射率.这种宽波段范围的低反射率来源于多层纳米微结构中邻层相差很小的等效折射率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈鸿烈	南京航空航天大学材料科学与技术学院	93	264	9.0	10.0
5	王威	南京航空航天大学材料科学与技术学院	23	52	4.0	5.0
6	吕红杰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	3	12	2.0	3.0
7	岳之浩	南京航空航天大学材料科学与技术学院	8	19	3.0	3.0