熔石英光学元件的损伤前驱及其抑制技术

• 作者: 刘红婕 叶鑫 周信达 孙来喜 张振 王凤蕊 程强 蒋晓东 黄进
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 熔石英 损伤前驱体 氢氟酸 损伤性能
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 驱动器
• 页码范围: 3220-3224
• 页数: 5页
• 分类号: O348.11|O437
• 字数: 2484字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132512.3220

摘要

基于抛光所引起的熔石英元件表面、亚表面所存在的损伤前驱体分布,研究了不同种类的损伤前驱体所引起的损伤形貌.然后根据不同种类的损伤前驱体分别采用表面活性剂、强氧化性酸、氢氟酸的水溶液对不同的损伤前驱体进行处理.研究结果显示:经过前期预先清洗以后,吸收性杂质所导致的雾状损伤得以消除,亚表面分布的裂纹得以很好地平滑钝化,极大地提升了熔石英光学元件的抗损伤性能,损伤阈值从4.8J/crn2提高到11.0 J/cm2,最大提升幅度达到原来的2.3倍.