桶式外延炉吹扫工艺改善外延层电阻率均匀性的研究

• 作者: 殷海丰 玉文林 薛兵
• 来源期刊: 甘肃科技
• 学科: 工学
• 关键词: 变流量吹扫 硅外延 电阻率 边界层 自掺杂
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 34-36
• 页数: 3页
• 分类号: TM23
• 字数: 1836字
• 语种: 中文

摘要

随着硅外延片在器件制造领域应用的不断扩展,对用于制作器件的外延片的要求也越来越高,其中最重要的是准确控制外延层电阻率及其均匀性.由于衬底自掺杂与系统杂质因素的影响,使得外延层电阻率的控制十分困难,同时电阻率均匀性也大大降低.通过对外延生长过程中外延层表面气体边界层的原理进行分析,提出了变流量吹扫工艺,减少边界层中杂质浓度,制备出电阻率均匀性好的外延片.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛兵	中国电子科技集团公司第四十六研究所	13	24	3.0	4.0
2	殷海丰	中国电子科技集团公司第四十六研究所	4	2	1.0	1.0
3	玉文林	中国电子科技集团公司第四十六研究所	1	1	1.0	1.0