193nm氟化物薄膜的激光诱导损伤

• 作者: 常艳贺 李春 金春水 靳京城
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 缺陷 激光损伤 热蒸发 氟化物
• 年，卷（期）: 2013,（7）
• 所属期刊栏目: 070 薄膜
• 页码范围: 132-135
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.0707001

摘要

在ArF准分子激光系统的应用中,光学薄膜元件激光诱导损伤的因素很多,因此在特定模式下分析薄膜损伤机理具有重要意义.采用热蒸发方法分别制备了LaF3和MgF2单层薄膜,以及LaF3/MgF2的半反射薄膜和高反射薄膜,对沉积的薄膜进行了ArF准分子193 nm激光的损伤阈值测量,并采用Nomarski显微镜观察了薄膜的表面缺陷和损伤形貌.实验结果表明,在薄膜的制备过程中,单层LaF3薄膜沉积后表面比较光滑,而MgF2薄膜则有少量的缺陷产生,缺陷随着薄膜层数的增加而逐渐增多.从薄膜的显微观测推断,在此工艺条件下制备的高反射薄膜损伤主要是由于大量缺陷引起.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	30	317	10.0	17.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	56	202	9.0	11.0
3	靳京城	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	2	1.0	1.0
4	常艳贺	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	17	2.0	4.0