钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
文献导航
学科分类
>
综合
工业技术
科教文艺
医药卫生
基础科学
经济财经
社会科学
农业科学
哲学政法
社会科学II
哲学与人文科学
社会科学I
经济与管理科学
工程科技I
工程科技II
医药卫生科技
信息科技
农业科技
数据库索引
>
中国科学引文数据库
工程索引(美)
日本科学技术振兴机构数据库(日)
文摘杂志(俄)
科学文摘(英)
化学文摘(美)
中国科技论文统计与引文分析数据库
中文社会科学引文索引
科学引文索引(美)
中文核心期刊
cscd
ei
jst
aj
sa
ca
cstpcd
cssci
sci
cpku
默认
篇关摘
篇名
关键词
摘要
全文
作者
作者单位
基金
分类号
搜索文章
搜索思路
钛学术文献服务平台
\
学术期刊
\
基础科学期刊
\
物理学期刊
\
人工晶体学报期刊
\
电沉积制备CuInS2半导体薄膜及其光学性能研究
电沉积制备CuInS2半导体薄膜及其光学性能研究
作者:
关荣锋
孙倩
张大峰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
半导体薄膜
太阳能电池
CuInS2
黄铜矿结构
光学带隙
摘要:
利用电化学循环伏安法研究了Cu2、In3+及S2O2-在不同pH条件下的伏安特性,发现以柠檬酸为络合剂,pH=6时几种离子在-0.8V电位下的电化学还原行为相近,在此基础上采用恒电位法在ITO导电玻璃基底上制备CIS薄膜太阳能电池用的吸收层材料CuInS2半导体薄膜.为提高膜层的结晶度,选取空气、Ar、及Ar+S三种气氛对沉积的膜层进行热处理,SEM、XRD及Raman光谱结果表明,经Ar气氛中硫化热处理才可以得到结晶度好且形貌均匀致密的薄膜.Cu2+/In3+比影响薄膜的结晶生长,结果表明,随着Cu/In比的增大,薄膜以典型的黄铜矿结构为主,当沉积电位为-0.8V且Cu2+/In3=1.8时基底上得到的高质量CuInS2半导体薄膜的光学带隙是1.55 eV.
暂无资源
收藏
引用
分享
推荐文章
溶剂热法制备CuInS2纳米粉体与薄膜的微观结构与光学性能
溶剂热
CuInS2
纳米
太阳能电池
光吸收
形貌
CuInS2/ZnS核/壳量子点的制备及其光致发光器件
CuInS2量子点
ZnS壳层
高温热分解法
发光二极管
电化学法制备p型Cu2O半导体薄膜及其性能的表征
氧化亚铜
电化学沉积
薄膜
非水体系电沉积稀土填充半导体热电材料Bi2Sb3Lax及其电性能研究
电沉积
稀土元素
热电材料
非水体系
电性能
内容分析
文献信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
电沉积制备CuInS2半导体薄膜及其光学性能研究
来源期刊
人工晶体学报
学科
工学
关键词
半导体薄膜
太阳能电池
CuInS2
黄铜矿结构
光学带隙
年,卷(期)
2013,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
65-71,83
页数
8页
分类号
TN304.2
字数
3982字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
关荣锋
河南理工大学材料科学与工程学院
43
485
13.0
20.0
2
孙倩
河南理工大学材料科学与工程学院
30
134
6.0
11.0
3
张大峰
河南理工大学物理化学学院
4
8
1.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
参考文献
(19)
节点文献
引证文献
(8)
同被引文献
(6)
二级引证文献
(9)
1999(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2001(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2002(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2003(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2004(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2008(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2009(3)
参考文献(3)
二级参考文献(0)
2010(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2011(5)
参考文献(5)
二级参考文献(0)
2012(2)
参考文献(2)
二级参考文献(0)
2013(1)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2013(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2014(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2015(4)
引证文献(2)
二级引证文献(2)
2016(6)
引证文献(3)
二级引证文献(3)
2018(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
2019(3)
引证文献(1)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
半导体薄膜
太阳能电池
CuInS2
黄铜矿结构
光学带隙
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
期刊文献
相关文献
1.
溶剂热法制备CuInS2纳米粉体与薄膜的微观结构与光学性能
2.
CuInS2/ZnS核/壳量子点的制备及其光致发光器件
3.
电化学法制备p型Cu2O半导体薄膜及其性能的表征
4.
非水体系电沉积稀土填充半导体热电材料Bi2Sb3Lax及其电性能研究
5.
半导体表面化学沉积制备WO3-TiO2薄膜的组织及电化学性能
6.
离子液体电沉积制备Cu掺杂 NiO 电致变色薄膜及其性能
7.
氧化锌半导体材料的性能研究与制备进展
8.
直流三极溅射法制备CuInS2薄膜
9.
单步电沉积法制备CuInS_2薄膜
10.
锆钛酸钡薄膜的制备及其光学性能研究
11.
量子点CuInS2晶体的近红外光学性质研究
12.
硫化时间对CuInS2薄膜微结构的影响
13.
半导体薄膜光催化降解苯酚废水
14.
半导体薄膜晶体管的节能设计方法研究
15.
化学液相沉积制备PbSe薄膜生长过程及其性能研究
推荐文献
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
首页
论文降重
免费查重
学术期刊
学术导航
任务中心
论文润色
登录
根据相关规定,获取原文需跳转至原文服务方进行注册认证身份信息
完成下面三个步骤操作后即可获取文献,阅读后请
点击下方页面【继续获取】按钮
钛学术
文献服务平台
学术出版新技术应用与公共服务实验室出品
原文合作方
继续获取
获取文献流程
1.访问原文合作方请等待几秒系统会自动跳转至登录页,首次访问请先注册账号,填写基本信息后,点击【注册】
2.注册后进行实名认证,实名认证成功后点击【返回】
3.检查邮箱地址是否正确,若错误或未填写请填写正确邮箱地址,点击【确认支付】完成获取,文献将在1小时内发送至您的邮箱
*若已注册过原文合作方账号的用户,可跳过上述操作,直接登录后获取原文即可
点击
【获取原文】
按钮,跳转至合作网站。
首次获取需要在合作网站
进行注册。
注册并实名认证,认证后点击
【返回】按钮。
确认邮箱信息,点击
【确认支付】
, 订单将在一小时内发送至您的邮箱。
*
若已经注册过合作网站账号,请忽略第二、三步,直接登录即可。
期刊分类
期刊(年)
期刊(期)
期刊推荐
力学
化学
地球物理学
地质学
基础科学综合
大学学报
天文学
天文学、地球科学
数学
气象学
海洋学
物理学
生物学
生物科学
自然地理学和测绘学
自然科学总论
自然科学理论与方法
资源科学
非线性科学与系统科学
人工晶体学报2021
人工晶体学报2020
人工晶体学报2019
人工晶体学报2018
人工晶体学报2017
人工晶体学报2016
人工晶体学报2015
人工晶体学报2014
人工晶体学报2013
人工晶体学报2012
人工晶体学报2011
人工晶体学报2010
人工晶体学报2009
人工晶体学报2008
人工晶体学报2007
人工晶体学报2006
人工晶体学报2005
人工晶体学报2004
人工晶体学报2003
人工晶体学报2002
人工晶体学报2001
人工晶体学报2000
人工晶体学报1999
人工晶体学报1998
人工晶体学报2013年第9期
人工晶体学报2013年第8期
人工晶体学报2013年第7期
人工晶体学报2013年第6期
人工晶体学报2013年第5期
人工晶体学报2013年第4期
人工晶体学报2013年第3期
人工晶体学报2013年第2期
人工晶体学报2013年第12期
人工晶体学报2013年第11期
人工晶体学报2013年第10期
人工晶体学报2013年第1期
关于我们
用户协议
隐私政策
知识产权保护
期刊导航
免费查重
论文知识
钛学术官网
按字母查找期刊:
A
B
C
D
E
F
G
H
I
J
K
L
M
N
O
P
Q
R
S
T
U
V
W
X
Y
Z
其他
联系合作 广告推广: shenyukuan@paperpass.com
京ICP备2021016839号
营业执照
版物经营许可证:新出发 京零 字第 朝220126号